A50-7083 MS Установка магнетронного распыления

Компактная установка магнетронного распыления предназначена для осаждения тонких металлических пленок на образцы с высокой степенью однородности. Кварцевая камера диаметром 150 мм и высотой 130 мм обеспечивает визуальный контроль процесса. Рабочий ток до 60 мА и напряжение распыления до 500 В позволяют точно контролировать параметры нанесения. Устройство поддерживает мишени диаметром 57 мм толщиной 0.1 мм из различных материалов: золото, платина, палладий, медь, серебро, вольфрам и другие. Диапазон вакуума от 1 до 10 Па обеспечивает стабильные условия для магнетронного напыления. Питание осуществляется от стандартной сети 220 В.

• Удобное управление, простота в использовании, однокнопочное нанесение покрытия.
• Компактные размеры, не занимают много места.
• Равномерное и мелкодисперсное покрытие.
• Быстрая регулировка стола для образцов.
• Надежность и безопасность.