Climber Автоматический анализатор удельной поверхности и пористости

Анализаторы CIQTEK Climber предназначены для быстрого, точного и стабильного тестирования удельной поверхности и распределения пор. Они позволяют анализировать до 6 образцов одновременно, обеспечивая новый уровень удобства в проведении исследований.

Возможности прибора:

• Измерение удельной поверхности и распределения пор твердых веществ, суспензий и порошков
• Анализ удельной поверхности от 0,0005 м²/г и выше
• Определение размеров пор в диапазоне от 0,35 до 500 нм
• Пятиточечный BET-анализ выполняется всего за 20 минут

Производительность тестирования

• Количество станций: 2, 4 или 6 (опционально), возможность параллельного тестирования
• Испытательные газы: N₂, Ar, CO₂, Kr и другие

Диапазон измерений

• Удельная поверхность: от 0,0005 м²/г и выше
• Размер пор:
  • Точный анализ: 2–500 нм
  • Рутинный анализ: 0,35–2 нм
• Общий объем пор: от 0,0001 cc/г и выше

Точность теста

• Повторяемость измерения удельной поверхности (RSD) ≤ 1,0%
• Максимальное отклонение при измерении нескольких размеров пор ≤ 0,15 нм

Диапазон парциального давления

• От 10⁻⁵ до 0,999

Дегазация образцов

• Независимая система подготовки образцов
• Шесть отдельных групп управления температурой

Контроль температуры

• Диапазон регулировки: от комнатной температуры до 400°C
• Точность контроля: ±0,1°C

Функции программного обеспечения

Поддерживает различные аналитические модели, включая:

• BET (анализ удельной поверхности)
• Метод Ленгмюра
• t-plot анализ
• BJH, HK, SF, DR/DA, MP
• NLDFT (анализ распределения пор)

Аппаратная структура

• Датчик давления: 1000 Торр, точность < 0,1% FS
• Трубка P₀: отдельная нержавеющая сталь для каждого модуля
• Вакуумные насосы: независимая система для каждого модуля
• Сосуд Дьюара: 3 л

Габариты и вес

• Ширина: 63 см
• Глубина: 51 см
• Высота: 72 см
• Вес: 53 кг

Этот анализатор обеспечивает высокую точность, автоматизацию процессов и параллельное тестирование нескольких образцов, что делает его эффективным решением для исследования пористых материалов и удельной поверхности.